儀器名稱(chēng)：磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

型號(hào)：FJL450E磁控與離子束復(fù)合濺射設(shè)備

應(yīng)用范圍：磁控濺射技術(shù)是利用帶電離子在電磁場(chǎng)的作用下，轟擊靶物質(zhì)，被濺射出來(lái)的原子以一定的動(dòng)能射向襯底，在襯底上形成薄膜。磁控濺射的特點(diǎn)是：對(duì)多種材料有效、沉積速率高、低能濺射。