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負(fù)責(zé)人

黎妍文

儀器生產(chǎn)廠(chǎng)家及型號(hào)

QUORUM  Q150V S Plus

儀器研究方向

制備各類(lèi)金屬、非金屬的功能性薄膜

儀器主要功能用途及參數(shù)

主要功能：Q150V Plus是一款高真空應(yīng)用的超精細(xì)鍍膜設(shè)備，其極限真空度為1x10-6mbar。 結(jié)合使用寬量程潘寧規(guī)和皮拉尼規(guī)，可以濺射具有超細(xì)成膜顆粒尺寸的易氧化金屬，適用于高分辨率成像。 更低的背底負(fù)壓去除了腔室中的氧氮和水汽，避免在濺射過(guò)程中發(fā)生化學(xué)反應(yīng)以及在鍍膜過(guò)程中產(chǎn)生的雜質(zhì)或缺陷。 同樣地，較低的散射可得到高純而致密的無(wú)定形碳膜。 Q150V Plus除具有Q150T Plus的所有優(yōu)點(diǎn)外，還可獲得更細(xì)成膜顆粒尺寸和更薄的膜，適用于超高分辨率應(yīng)用（放大倍數(shù)高于200,000倍）。

核心參數(shù)：

1. 真空系統(tǒng)： 5m3/hr 旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵＋70L/s 風(fēng)冷渦輪分子泵（儀器內(nèi)部）；系統(tǒng)極限真空度為1 x 10-6 mbar；濺射工作真空范圍：鍍金時(shí)真空在5x 10-3 和1 x 10-1mbar 之間；

2. 濺射電流：0-150mA 連續(xù)可調(diào)；采用低電壓恒流冷濺射方式；

3. 濺射時(shí)間：可預(yù)設(shè)濺射時(shí)間；一次真空條件下1-3600 秒連續(xù)可調(diào)；

4. 濺射靶材：標(biāo)配直徑57mm 圓片鉻靶 1塊。

測(cè)試內(nèi)容及領(lǐng)域

一、常見(jiàn)測(cè)試類(lèi)型和項(xiàng)目：

制備各類(lèi)金屬、非金屬的功能性薄膜

二、主要應(yīng)用領(lǐng)域：

 超高分辨率放大SEM應(yīng)用

 TEM載網(wǎng)鍍碳

 FIB保護(hù)性鉑層

 腐蝕，摩擦和磨損保護(hù)層的研發(fā)

 醫(yī)療設(shè)備上的保護(hù)層

 BSE 成像

EDX，WDS，EBSD 分析

 碳復(fù)型膜

 納米技術(shù)，如：沸石，聚合物納米刷

注意事項(xiàng)（儀器使用和樣品制備）

主要操作性能：

1. 離子濺射：濺射電流可設(shè)范圍寬，至預(yù)設(shè)厚度（需選用FTM）終止或定時(shí)終止?？稍O(shè)濺射時(shí)間寬，無(wú)需破真空，自動(dòng)內(nèi)置冷卻占空比。

2. 蒸鍍：可用碳棒（可選碳繩）蒸鍍碳膜；選用鎢籃或鉬舟進(jìn)行金屬熱蒸發(fā)；選用標(biāo)準(zhǔn)鉬舟清潔TEM光闌

3. 可視化狀態(tài)指示

大而多色的LED指示燈，使用戶(hù)在一定距離就可輕松識(shí)別過(guò)程狀態(tài)。指示燈可顯示以下?tīng)顟B(tài)：

◆ 初始化中 ◆ 程序運(yùn)行

◆ 空閑狀態(tài) ◆ 正在鍍膜

◆ 程序完成 ◆ 故障停機(jī)狀態(tài)

程序完成后音頻聲音提示

主要配件及拓展功能（選填）

儀器操作指引：（選填）

    見(jiàn)操作指南文件。